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离子减薄后NiAl3合金相中调制结构的高分辨电子显微学研究

陈厚文 , 王蓉

金属学报

利用像解卷方法对3 keV氩离子减薄后合金相NiAl3中出现的一维无公度调制结构进行了研究.分析了调制结构的形成机理, 提出该调制基本属于成分调制.

关键词: 调制结构 , NiAl3 , ion etching , HRTEM

包含等离子体辅助沉积参数和离子刻蚀作用过程的结构区域相图

André Anders

中国表面工程 doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.01.001

文中提出一种扩展的薄膜微观结构的区域相图,可以用其来表征过滤阴极弧以及高功率脉冲磁控溅射镀膜过程中含有大量离子流的动态沉积过程.其坐标轴包括广义同系温度,标量化动能以及可以表征离子刻蚀作用的净膜厚.需要强调的是,由于影响薄膜生长的实际参数要远超相图中有限的坐标轴数,因此该结构区域相图展示的生长条件与薄膜结构之间的关系是近似和简化过的.

关键词: 结构区域相图 , 薄膜制备 , 等离子体辅助 , 离子刻蚀 , 应力 , 形貌 , 同系温度 , 位能与动能

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